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碳化硅薄膜在低輻射鍍膜玻璃中的應(yīng)用

2018.06.10

1、現(xiàn)狀

  近年來,在可鋼化low-e玻璃(大板膜玻)在我國得到一定的推廣,但是整體質(zhì)量并不夠高,因?yàn)楝F(xiàn)有的low-e玻璃抗機(jī)械劃傷性能不夠高,抗高溫氧化能力還不夠強(qiáng),高性能產(chǎn)品成本很高,因此解決上述問題已經(jīng)迫在眉睫。

  在大面積鍍膜領(lǐng)域,SiNx介質(zhì)層膜的應(yīng)用越來越廣泛。SiNx具有較好的抗腐蝕、抗機(jī)械劃傷的、抗高溫氧化能力。因此SiNx作為外層保護(hù)層來使用,目前出現(xiàn)的可鋼化low-e玻璃的外層也是用的SiNx材料。可鋼化low-e玻璃投入市場(chǎng)使得low-e玻璃的應(yīng)用得到了很大范圍的推廣。但是low-e玻璃在民用建筑領(lǐng)域使用的還是不夠廣泛,其重要的問題就是成本較高。降低low-e玻璃的成本將成為普及l(fā)ow-e玻璃的重要議題,也將成為各大玻璃加工企業(yè)熱門的話題。Low-e玻璃成本的主要是由于生產(chǎn)成本太高,解決生產(chǎn)成本的有效的途徑是提高生產(chǎn)效率。在目前大多數(shù)企業(yè)是提高玻璃在鍍膜機(jī)中的走速、提高濺射靶材的功率來提高效率降低成本的。在保證low-e玻璃膜層厚度的時(shí)候,玻璃的走速越快與之對(duì)應(yīng)的濺射靶材功率將越高。在low-e玻璃膜層中介質(zhì)層SiNx的厚度很厚。隨著硅鋁靶的功率提高,掉渣問題會(huì)越來越嚴(yán)重。其根本原因受到硅鋁靶濺射速率的限制。

  2、碳化硅材料的介紹

  碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑為原料通過電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見的礦物,莫桑石。碳化硅又稱碳硅石。在當(dāng)代C、N、B等非氧化物高技術(shù)耐火原料中,碳化硅為應(yīng)用廣泛、經(jīng)濟(jì)的一種??梢苑Q為金鋼砂或耐火砂。碳化硅是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽)等原料在電阻爐內(nèi)經(jīng)高溫冶煉而成。碳化硅晶體結(jié)構(gòu)分為六方或菱面體的α-SiC和立方體的β-SiC(稱立方碳化硅)。α-SiC由于其晶體結(jié)構(gòu)中碳和硅原子的堆垛序列不同而構(gòu)成許多不同變體,已發(fā)現(xiàn)70余種。β-SiC于2100℃以上時(shí)轉(zhuǎn)變?yōu)棣?SiC。碳化硅的硬度很大,莫氏硬度為9.5級(jí),僅次于世界上硬的金剛石(10級(jí)),具有優(yōu)良的導(dǎo)熱性能,是一種半導(dǎo)體,高溫時(shí)能抗氧化。

-轉(zhuǎn)自中國玻璃網(wǎng)

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